Título: | POLARIZAÇÃO ELETROTÉRMICA DE VIDROS E FIBRAS ÓPTICAS | |||||||
Autor: |
GLADYS ADRIANA QUINTERO ROJAS |
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Colaborador(es): |
ISABEL CRISTINA DOS SANTOS CARVALHO - Orientador PAULA MEDEIROS PROENCA DE GOUVEA - Coorientador |
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Catalogação: | 07/MAR/2006 | Língua(s): | PORTUGUÊS - BRASIL |
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Tipo: | TEXTO | Subtipo: | TESE | |||||
Notas: |
[pt] Todos os dados constantes dos documentos são de inteira responsabilidade de seus autores. Os dados utilizados nas descrições dos documentos estão em conformidade com os sistemas da administração da PUC-Rio. [en] All data contained in the documents are the sole responsibility of the authors. The data used in the descriptions of the documents are in conformity with the systems of the administration of PUC-Rio. |
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Referência(s): |
[pt] https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/projetosEspeciais/ETDs/consultas/conteudo.php?strSecao=resultado&nrSeq=7862&idi=1 [en] https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/projetosEspeciais/ETDs/consultas/conteudo.php?strSecao=resultado&nrSeq=7862&idi=2 |
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DOI: | https://doi.org/10.17771/PUCRio.acad.7862 | |||||||
Resumo: | ||||||||
Componentes ópticos para sistemas de telecomunicações
estão em crescente
demanda. Para aumentar a eficiência destes componentes,
reduzir os custos e
permitir a integração aos sistemas atuais, tem-se
incentivado a pesquisa de novos
materiais, como, por exemplo, a sílica fundida.
Geralmente, a sílica fundida, por
ser um meio isotrópico, não exibe efeitos não lineares de
segunda ordem como o
efeito eletro-óptico, que pode ser utilizado na fabricação
de chaves e moduladores
ópticos. No entanto, pode-se induzir na sílica uma não
linearidade de segunda
ordem (c(2)) da ordem de 1 pm/V através da técnica de
polarização eletrotérmica.
Observa-se a formação de uma camada depletada de íons e um
campo elétrico
muito intenso permanentemente gravado em sílica
polarizada. A caracterização
experimental desta camada de depleção, ou seja, espessura,
perfil e magnitude do
c(2) induzido, é importante para a compreensão do processo
físico que ocorre
durante a polarização. Podem ser encontrados na literatura
resultados muito
divergentes obtidos com diferentes técnicas de
caracterização. Não se sabe se esta
divergência é devida aos diferentes métodos usados, ou a
diferentes condições de
polarização e tipos de amostras. Nesta tese, fez-se uma
comparação entre quatro
técnicas de caracterização da espessura da camada de
depleção em sílica
polarizada: ataque químico interferométrico com ácido
fluorídrico, Maker Fringe,
microscopia óptica e de força atômica, e ataque
interferométrico com medida de
segundo harmônico em tempo real. A estabilidade da não
linearidade induzida é
importante para garantir a estabilidade de chaves e
moduladores ópticos
construídos com sílica polarizada, portanto, fez-se também
um estudo de
apagamento por temperatura da não linearidade induzida em
amostras de sílica
polarizada. Foi também estudado nesta tese a influência da
superfície da amostra
antes da polarização, fator importante para a otimização
da reprodutibilidade do
processo. Para investigar a potencialidade do
desenvolvimento de um Atenuador
Óptico Variável (VOA) a fibra óptica, também foi feito um
estudo de polarização eletrotérmica em fibras ópticas.
Estudos complementares foram realizados
envolvendo a influência do campo elétrico na taxa de
ataque de ácido fluorídrico
em fibras ópticas. Fez-se também um estudo sobre redes de
Bragg gravadas em
fibras especiais. Parte desta tese foi financiada pelo
CNPq (bolsa doutorado), pelo
Convênio Ericsson/PUC-Rio - Termo Aditivo 04 e 14, ref:
PUC.04, Polarização
de fibras ópticas, e pelo Projeto GIGA - Finep - Funttel -
CPqD, Subprojeto
Atenuador Óptico Variável a Fibra Óptica.
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