Título: | ANÁLISE DE ENTRANHAMENTO EM ESCOAMENTO ANULAR VERTICAL | ||||||||||||
Autor(es): |
EDUARDO KHAWAJA DE RESENDE |
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Colaborador(es): |
ANGELA OURIVIO NIECKELE - Orientador JOAO NEUENSCHWANDER ESCOSTEGUY CARNEIRO - Coorientador |
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Catalogação: | 07/JUL/2021 | Língua(s): | PORTUGUÊS - BRASIL |
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Tipo: | TEXTO | Subtipo: | TRABALHO DE FIM DE CURSO | ||||||||||
Notas: |
[pt] Todos os dados constantes dos documentos são de inteira responsabilidade de seus autores. Os dados utilizados nas descrições dos documentos estão em conformidade com os sistemas da administração da PUC-Rio. [en] All data contained in the documents are the sole responsibility of the authors. The data used in the descriptions of the documents are in conformity with the systems of the administration of PUC-Rio. |
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Referência(s): |
[pt] https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/projetosEspeciais/TFCs/consultas/conteudo.php?strSecao=resultado&nrSeq=53581@1 [en] https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/projetosEspeciais/TFCs/consultas/conteudo.php?strSecao=resultado&nrSeq=53581@2 |
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DOI: | https://doi.org/10.17771/PUCRio.acad.53581 | ||||||||||||
Resumo: | |||||||||||||
Escoamentos multifásicos são frequentemente encontrados na natu-reza e na indústria. Dependendo da geometria e das propriedades dos fluidos, essas fases podem se distribuir formando diferentes tipos de padrões. Ao longo de tubulações, encontramos os padrões anular, estratificado, golfadas, bolhas, etc. O foco deste estudo é no escoamento anular vertical, o qual é caracterizado por um núcleo gasoso central escoando em alta veloci-dade e um filme de líquido. Devido à alta velocidade de gás, gotículas de líquido podem se entranhar no núcleo gasoso, assim como podem voltar a se depositar no filme de líquido. Este processo pode ter um impacto significativo nas caraterísticas do escoamento. Dessa forma, o objetivo deste trabalho é analisar modelos de entranhamento e deposição em escoamento anular vertical através do Modelo 1D de Dois Fluidos. Dois conjuntos de mo-delos foram selecionados para serem investigados. O primeiro consiste no modelo de entranhamento de Ueda (1979) para as gotículas e de Pan e Hanratty (2002) para a deposição, sendo o segundo conjunto uma versão modificada destes, incluindo uma concentração destes fenômenos nas cris-tas das ondas. Os dados obtidos foram comparados com a literatura e mostraram melhores resultados com os modelos modificados na previsão da es-pessura do filme e da frequência das ondas interfaciais.
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