Título: | MODELAGEM DE GOTAS DISPERSAS EM ESCOAMENTO ANULAR VERTICAL | ||||||||||||
Autor: |
JOAO GABRIEL CARVALHO DE SIQUEIRA |
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Colaborador(es): |
ANGELA OURIVIO NIECKELE - Orientador JOAO NEUENSCHWANDER ESCOSTEGUY CARNEIRO - Coorientador |
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Catalogação: | 30/ABR/2020 | Língua(s): | PORTUGUÊS - BRASIL |
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Tipo: | TEXTO | Subtipo: | TESE | ||||||||||
Notas: |
[pt] Todos os dados constantes dos documentos são de inteira responsabilidade de seus autores. Os dados utilizados nas descrições dos documentos estão em conformidade com os sistemas da administração da PUC-Rio. [en] All data contained in the documents are the sole responsibility of the authors. The data used in the descriptions of the documents are in conformity with the systems of the administration of PUC-Rio. |
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Referência(s): |
[pt] https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/projetosEspeciais/ETDs/consultas/conteudo.php?strSecao=resultado&nrSeq=47755&idi=1 [en] https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/projetosEspeciais/ETDs/consultas/conteudo.php?strSecao=resultado&nrSeq=47755&idi=2 |
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DOI: | https://doi.org/10.17771/PUCRio.acad.47755 | ||||||||||||
Resumo: | |||||||||||||
O escoamento anular é caracterizado por um núcleo gasoso fluindo a alta
velocidade com um filme líquido no seu entorno, molhando a parede do duto. A
presença de gotículas líquidas no núcleo gasoso resulta em impacto relevante em
características do escoamento anular, como gradiente de pressão e propriedades das
ondas presentes no filme líquido. A formação de gotículas se dá usualmente na
crista das ondas de perturbação presentes na interface líquido-gás. No presente
trabalho, é realizado um estudo do regime anular com presença de gotículas em
tubulações verticais utilizando o Modelo de Dois Fluidos unidimensional. Um
modelo de transferência de massa das gotículas é desenvolvido e acoplado ao
modelo de Dois Fluidos. O modelo resultante permite capturar a evolução
automática da interface gás-líquido e a formação de ondas de filme líquido e sua
influência no desprendimento e deposição de gotículas. Analisa-se o desempenho
de três modelos de entranhamento de gotículas disponíveis na literatura, além de
um modelo de deposição de gotículas. Considerando que gotículas são criadas por
cisalhamento nas cristas das ondas de perturbação, modificações dos modelos são
propostas com a finalidade de melhor capturar a influência das ondas do filme
líquido nos processos de entranhamento e deposição de gotículas. Parâmetros do
escoamento como gradiente de pressão, espessura do filme do líquido e variáveis
relacionadas com as ondas interfaciais são avaliados, mostrando boa concordância
com dados experimentais disponíveis na literatura.
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