Título
[pt] CARACTERIZAÇÃO DA EMISSÃO DE RADIAÇÃO NA FAIXA DE UV INDUZIDA POR ELÉTRONS EM MATERIAIS EM FORMA DE FILMES FINOS
Título
[en] CHARACTERIZATION OF THE ELECTRON INDUCED UV EMISSION IN THIN FILM MATERIALS
Autor
[pt] LUCAS MAURICIO SIGAUD
Vocabulário
[pt] FILMES FINOS
Vocabulário
[pt] DETECTORES ULTRAVIOLETA
Vocabulário
[pt] EMISSAO ULTRAVIOLETA
Vocabulário
[pt] FISICA
Vocabulário
[en] THIN FILMS
Vocabulário
[en] ULTRAVIOLET DETECTORS
Vocabulário
[en] ULTRAVIOLET EMISSION
Vocabulário
[en] PHYSICS
Resumo
[pt] O objetivo deste projeto foi a montagem de um sistema que
permitisse a
caracterização de novos materiais em forma de filmes finos
para aplicações em
sistemas com detectores de UV, concentrando a nossa
pesquisa na
caracterização da radiação emitida por alguns filmes finos
irradiados com um
feixe de elétrons. A utilização de uma Micro-Channel Plate
(MCP) nos direcionou
para a escolha dos materiais catodoluminescentes que
deveriam ser
depositados como filmes. Este tipo de detector é sensível
a fótons na faixa do
ultravioleta de vácuo (VUV) e dos raios-X e, portanto, a
escolha deveria recair
em materiais cuja catodoluminescência ocorresse nessas
regiões do espectro
eletromagnético. Um sistema foi montado em uma câmara de
vácuo para a
realização do estudo destes materiais através da
incidência de elétrons
(produzidos por um canhão de elétrons com energia variável
de 0 a 400 eV) nos
mesmos. Os materiais, uma vez irradiados com elétrons,
emitem fótons na
região do VUV, os quais são, por sua vez, detectados pela
MCP. Paralelamente,
foram realizadas deposições de filmes baseados em óxidos
puros ou dopados
(ZnO, ZnO:Eu, ZnO:Er) e filmes de LiYF4:Er+, nunca antes
depositado. Para
tanto foram utilizadas diferentes técnicas de deposição
como a de feixe de
elétrons e a de spin-coating. Foram realizadas duas séries
de medidas destas
amostras na câmara de vácuo, para detecção de emissão de
fótons por
transmissão e por reflexão a 90º. Percebe-se, através dos
resultados obtidos,
que os materiais dopados com Érbio possuem um forte pico
de emissão em
torno de 120 eV. Estes resultados preliminares indicam que
é possível utilizar
filmes dopados com Érbio como materiais
catodoluminescentes na faixa do VUV.
Resumo
[en] Our project was to build a system that would allow the
characterization of
new materials in the form of thin films for UV detectors
applications. The main
objective of our research was the characterization of the
radiation emitted by
electron-beam irradiated thin films. The use of a Micro
Channel Plate detector
(MCP) leaded us to choose certain cathodoluminescent
materials that should be
deposited as films. Since this kind of detector is
sensitive to photons in the
vacuum ultraviolet (VUV) and X-rays regions of the
electromagnetic spectrum,
our investigation was restricted to the materials which
present
cathodoluminescence in this region. Thin films based in
pure or doped oxides
(ZnO, ZnO:Eu, ZnO:Er) and LiYF4:Er+ were deposited. To
accomplish this,
different kinds of techniques were used, such as the
electron-beam and the spincoating
depositions. Once irradiated with electrons, these
materials emit VUV
photons, which are in turn detected by the MCP. For these
purposes it was
necessary to build an electron gun, with energy ranging
from 0 to 400 eV, placed
in a vacuum chamber, used for these experiments. Two
series of measurements
of the produced samples were performed in this vacuum
chamber, and the
photonic emission was detected by using transmission and
reflection geometries.
Our data show that, at the available incident energy
range, the Erbium-doped
materials have a strong emission peak around 120 eV. These
preliminary results
show that it is possible to use Erbium-doped films as VUV-
cathodoluminescent materials
Orientador(es)
MARCO CREMONA
Banca
JOAO ALBERTO MESQUITA PEREIRA
Banca
MARCO CREMONA
Banca
EDUARDO CHAVES MONTENEGRO
Banca
ANTONIO CARLOS FONTES DOS SANTOS
Catalogação
2005-10-25
Apresentação
2005-04-14
Tipo
[pt] TEXTO
Formato
application/pdf
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application/pdf
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application/pdf
Idioma(s)
PORTUGUÊS
Referência [pt]
https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/colecao.php?strSecao=resultado&nrSeq=7339@1
Referência [en]
https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/colecao.php?strSecao=resultado&nrSeq=7339@2
Referência DOI
https://doi.org/10.17771/PUCRio.acad.7339
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