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Título: THERMODYNAMIC MODELLING OF CDTE THIN FILM DEPOSITION BY ELEMENTAL CO-EVAPORATION, UNDER ISOTHERMAL TRANSPORT
Autor: MONICA CRISTINA RICCIO RIBEIRO
Instituição: PONTIFÍCIA UNIVERSIDADE CATÓLICA DO RIO DE JANEIRO - PUC-RIO
Colaborador(es):  ROBERTO RIBEIRO DE AVILLEZ - ADVISOR
LEILA ROSA DE OLIVEIRA CRUZ - CO-ADVISOR

Nº do Conteudo: 7072
Catalogação:  16/09/2005 Idioma(s):  PORTUGUESE - BRAZIL
Tipo:  TEXT Subtipo:  THESIS
Natureza:  SCHOLARLY PUBLICATION
Nota:  Todos os dados constantes dos documentos são de inteira responsabilidade de seus autores. Os dados utilizados nas descrições dos documentos estão em conformidade com os sistemas da administração da PUC-Rio.
Referência [pt]:  https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/colecao.php?strSecao=resultado&nrSeq=7072@1
Referência [en]:  https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/colecao.php?strSecao=resultado&nrSeq=7072@2
Referência DOI:  https://doi.org/10.17771/PUCRio.acad.7072

Resumo:
The objective of the present work is deposition of Cadmiun Telurides films from two sources of materials, Cd and Te, on the basis of the use of diagrams of thermodynamic potentials to evaluate the deposition conditions. In special, the considered method allows to evaluate the influence of gaseous contaminantes, such as, oxygen, on the condensed phases. The method can be applied for the deposition of other compounds that are more stable than the constituent elements. The equipment used in the deposition uses an alternative technique where the temperatures of source and substrate are the same ones.

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