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A violação de direitos autorais é passível de sanções civis e penais.
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Coleção Digital
Título: SUPERFICIAL INCORPORATION OF NITROGEN IN FILM DLC TREATED IN PLASMA OF RADIO FREQUENCY Autor: VICENTE AGUSTIN ATOCHE ESPINOZA
Instituição: PONTIFÍCIA UNIVERSIDADE CATÓLICA DO RIO DE JANEIRO - PUC-RIO
Colaborador(es):
FERNANDO LAZARO FREIRE JUNIOR - ADVISOR
Nº do Conteudo: 3884
Catalogação: 09/09/2003 Idioma(s): PORTUGUESE - BRAZIL
Tipo: TEXT Subtipo: THESIS
Natureza: SCHOLARLY PUBLICATION
Nota: Todos os dados constantes dos documentos são de inteira responsabilidade de seus autores. Os dados utilizados nas descrições dos documentos estão em conformidade com os sistemas da administração da PUC-Rio.
Referência [pt]: https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/colecao.php?strSecao=resultado&nrSeq=3884@1
Referência [en]: https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/colecao.php?strSecao=resultado&nrSeq=3884@2
Referência DOI: https://doi.org/10.17771/PUCRio.acad.3884
Resumo:
Título: SUPERFICIAL INCORPORATION OF NITROGEN IN FILM DLC TREATED IN PLASMA OF RADIO FREQUENCY Autor: VICENTE AGUSTIN ATOCHE ESPINOZA
Nº do Conteudo: 3884
Catalogação: 09/09/2003 Idioma(s): PORTUGUESE - BRAZIL
Tipo: TEXT Subtipo: THESIS
Natureza: SCHOLARLY PUBLICATION
Nota: Todos os dados constantes dos documentos são de inteira responsabilidade de seus autores. Os dados utilizados nas descrições dos documentos estão em conformidade com os sistemas da administração da PUC-Rio.
Referência [pt]: https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/colecao.php?strSecao=resultado&nrSeq=3884@1
Referência [en]: https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/colecao.php?strSecao=resultado&nrSeq=3884@2
Referência DOI: https://doi.org/10.17771/PUCRio.acad.3884
Resumo:
Amorphous Hydrogenated carbon films (a - C: H) and
nitrogenated films ) (a - C: H(N) - deposited by plasma
enhanced chemical vapor deposition in 4 CH and CH4-N2
atmospheres were submitted to nitrogen r.f.- plasma
treatment. The influence of several parameters was
investigated: the chamber pressure, the self-bias voltage
and the exposure time. The erosion rate was determined by
profilometry. It increases as the self-bias increases and
tends to saturate for higher pressures. The nitrogen
incorporated in the films was measured by nuclear reation
analysis. The results indicate a decrease in the
N content a the self-bias increase that can be atributted
toen increase of the sputtering yield. The chemical bonds
were probed by XPS and two chemical environments can be
identified, one with N atoms surrounded by C atoms and the
other one with N atoms binding to H. Surface roughness and
friction coefficient modifications were followed by atomic
force and lateral force microscopies. The surface roughness
is independent on the value of the self-bias voltage, while
the friction coefficient slightly decreases.
Descrição | Arquivo |
COVER, ACKNOWLEDGEMENTS, RESUMO, ABSTRACT, SUMMARY AND LISTS | |
CHAPTER 1 | |
CHAPTER 2 | |
CHAPTER 3 | |
CHAPTER 4 | |
CHAPTER 5 | |
CHAPTER 6 | |
REFERENCES |